Отправить статью по E-mail 
Перспективы развития электроннолучевой ионнолучевой литографии в России
- Авторы: Зайцев С.И.1, Иржак Д.В.1, Ильин А.И.1, Князев М.A.1, Рощупкин Д.В.1, Грачев В.П.2, Курбатов В.Г.2, Малков Г.В.2
-
Учреждения:
- Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
- ФИЦ проблем химической физики и медицинской химии РАН
- Выпуск: Том 54, № 4 (2025)
- Страницы: 281-290
- Раздел: ЛИТОГРАФИЯ
- URL: https://vestnik-pp.samgtu.ru/0544-1269/article/view/690993
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0544126925040024
- EDN: https://elibrary.ru/qgohjo
- ID: 690993
Цитировать
Полный текст
Открытый доступ
Доступ предоставлен
Доступ платный или только для подписчиков
Аннотация
Рассмотрены вопросы создания отечественных резистов для процессов электроннолучевой и ионнолучевой литографии. Изготовленные позитивные резисты на основе полиметилметакрилата позволяют создавать наноразмерные структуры. Более того, продемонстрирована возможность применения комбинации созданных резистов в качестве двухслойных резистов. Также продемонстрированы перспективы развития отечественных процессов электроннолучевой и ионнолучевой литографии. В настоящий момент собственные отечественные технологические процессы электроннолучевой и ионнолучевой литографии находятся в стадии демонстраторов. В ближайшей перспективе будут разработаны отечественные установки электроннолучевой и ионнолучевой литографии. Для организации производства отечественных установок ионнолучевой литографии потребуется существенно больше времени.
Ключевые слова
Об авторах
С. И. Зайцев
Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
Д. В. Иржак
Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
А. И. Ильин
Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
М. A. Князев
Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
Д. В. Рощупкин
Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
В. П. Грачев
ФИЦ проблем химической физики и медицинской химии РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
В. Г. Курбатов
ФИЦ проблем химической физики и медицинской химии РАН
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
Г. В. Малков
ФИЦ проблем химической физики и медицинской химии РАН
Автор, ответственный за переписку.
Email: rochtch@iptm.ru
Черноголовка, Россия
Список литературы
- Buitraqgo E., Kulmala T.S., Fallica R., Ekinci Y. EUV lithography process challenge, in book Frontiers of Nanoscience, 2016. vol. 11, pp. 135–176. https://doi.org/10.1016/B978-0-08-100354-1.00004-1
- Fu N., Liu Y., Ma X., Chen Z. EUV Lithography: State-of-the-Art Review, J. Microelectron. Manuf. 2019. vol. 2, p. 19020202. https://doi.org/10.33079/jomm.19020202
- Grigorescu A.E., Hagen C.W. Resists for sub-20-nm electron beam lithography with a focus on HSQ: state of the art, Nanotechnology, 2009. vol. 20. pp. 292001. https://doi.org/10.1088/0957-4484/20/29/292001
- Winston D., Cord B.M., Ming B., Bell D.C. et al. Scanning-helium-ion-beam lithography with hydrogen silsesquioxane resist, J. Vac. Sci. Technol. 2009. B27, pp. 2702–2706.
- Shabelnikova Ya.L., Zaitsev S.I. Ion-beam lithography: modelling and analytical description of the deposited in resist energy, Technical Physics, 2022, Vol. 67, pp. 919–92303.
- Joshi-Imre A., Bauerdick S. Direct-Write Ion Beam Lithograph, Journal of Nanotechnology, 2014, Article ID170415. https://doi.org/10.1155/2014/170415
- Jung Y., Cheng X. Dual-layer thermal nanoimprint lithography without dry etching, J. Micromech. Microeng. 2012, vol. 22, pp. 085011.
- Lan H., Ding Y., Liu H., Lu B. Development of a step micro-imprint lithography tool, J. Micromech. Microeng. 2007. vol. 17, pp. 2039–2048.
- Sakharov S., Roshchupkin D., Emelin E., Irzhak D., Buzanov O., Zabelin A. X-ray diffraction investigation of high-temperature SAW sensor based on LGS crystal, Procedia Engineering, 2011, vol. 25, pp. 1020–1023.
- Grigoriev M., Fakhrtdinov R., Irzhak D. et al. Two-dimensional X-ray focusing by off-axis grazing incidence phase Fresnel zone plate on the laboratory X-ray source, Optics Communications, 2017. vol. 385, pp. 15–18.
- Irzhak D.V., Knyasev M.A., Punegov V.I. and Roshchupkin D.V. X-ray diffraction by phase diffraction gratings, J. Appl. Cryst. 2015. vol. 48, pp. 1159–1164.
- Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии, Москва: Мир, 1985, 494 с.
Дополнительные файлы
